Il existe de nombreuses formes de technologie de pulvérisation pour les revêtements sous vide
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Il existe de nombreuses formes de technologie de pulvérisation pour les revêtements sous vide
plus Closed Field Sputtering Confine le plasma dans un champ fermé en utilisant une distribution de champ magnétique. Réduit la perte de matériau cible dans la chambre à vide et rapproche le plasma de la pièce. Des revêtements denses peuvent être obtenus et la chambre à vide peut être maintenue relativement propre.
plus Twin sputtering (DMS) est une technique utilisée pour déposer des revêtements isolants. Au lieu d'un courant continu (DC) entre les cathodes et la chambre à vide, un courant alternatif (AC) est appliqué aux deux cathodes. Cela permet à la cible d'avoir une fonction d'auto-nettoyage. La pulvérisation magnétron à double cible est utilisée pour le dépôt à grande vitesse, par exemple, de revêtements d'oxyde.
La pulvérisation cathodique sous vide est un autre moyen de technologie de dépôt physique en phase vapeur
La pulvérisation cathodique est une autre méthode de technologie de dépôt physique en phase vapeur. Le processus de pulvérisation cathodique est une technologie dans laquelle les ions bombardent la surface de la cible, de sorte que le matériau cible est bombardé. Un gaz inerte, tel que l'argon, est chargé dans la chambre à vide, et en utilisant une haute tension, une décharge luminescente est générée qui accélère les ions à la surface de la cible, où les ions argon bombardent (pulvérisent) le matériau cible de la surface, avant la cible Il est généralement nécessaire d'utiliser d'autres gaz, tels que l'azote et l'acétylène, pour réagir avec le matériau cible pulvérisé pour former un film composé. La technique de pulvérisation peut préparer une variété de revêtements et présente de nombreux avantages dans les revêtements décoratifs (tels que Ti, Cr, Zr et carbonitrures) car les revêtements préparés sont très lisses, ce qui rend la technologie de pulvérisation également largement utilisée. Tribologie pour le marché automobile (ex. CrN, Cr2N et divers revêtements en carbone de type diamant (DLC)). Des ions à haute énergie bombardent la cible, extraient les atomes et les transforment en un état gazeux. La pulvérisation magnétron permet de pulvériser un grand nombre de matériaux.
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