Équipement de placage sous vide Contre-mesures d'amélioration du substrat et du film :

Équipement de placage sous vide Contre-mesures d'amélioration du substrat et du film :

(1) Renforcer le traitement de dégraissage et de décontamination. S'il s'agit d'un nettoyage par ultrasons, il doit se concentrer sur la fonction de dégraissage et garantir l'efficacité de la solution de dégraissage ; s'il doit être essuyé à la main, il peut être envisagé de l'essuyer avec de la poudre de carbonate de calcium avant de le nettoyer.

(2) Renforcez la cuisson de pré-placage, si les conditions le permettent, la température du substrat peut atteindre plus de 300 degrés, c'est mieux, la température constante est supérieure à 20 minutes, et la vapeur d'eau et la vapeur d'huile à la surface du substrat peuvent être volatilisé autant que possible. *Remarque : plus la température est élevée, plus la capacité d'adsorption du substrat est élevée et il est également facile d'absorber la poussière. Par conséquent, la propreté de la chambre à vide doit être améliorée. Sinon, il y aura de la poussière attachée au substrat avant le placage, ce qui affectera la résistance du film en plus d'autres défauts. (La température de désorption chimique de la vapeur d'eau sur le substrat sous vide est supérieure à 260 degrés). Cependant, toutes les pièces n'ont pas besoin d'être cuites à haute température. Certains matériaux à base de nitrate ont une température élevée, mais la résistance du film n'est pas élevée et il y aura des taches de couleur. Cela a une plus grande relation avec la contrainte et la correspondance thermique des matériaux.

(iii) Lorsque les conditions le permettent, l'unité est équipée d'un condenseur (PLOYCOLD), qui non seulement augmente la vitesse de pompage à vide de l'unité, mais aide également à éliminer la vapeur d'eau, l'huile et le gaz du substrat.

(iv) Améliorer le degré de vide du dépôt en phase vapeur. Pour une machine de revêtement au-dessus de 1 mètre, le vide de départ du dépôt en phase vapeur doit être supérieur à 3*10-3Pa. Plus la machine de revêtement est grande, plus le vide de départ du dépôt en phase vapeur est élevé.

Substrat d'équipement de galvanoplastie sous vide et combinaison de film

En général, dans les films anti-reflet, c'est la principale raison de la faiblesse du film. Étant donné que la surface du substrat aura inévitablement des impuretés nocives attachées à la surface pendant le processus de travail à froid optique et de nettoyage, et la surface du substrat aura toujours des couches endommagées en raison de l'effet du travail à froid optique et des impuretés (telles que sous forme de vapeur d'eau) qui pénètrent dans la couche endommagée, vapeur d'huile, liquide de nettoyage, liquide d'essuyage, poudre de polissage, etc., dont la vapeur d'eau est la principale), il est difficile de l'éliminer par des méthodes ordinaires, en particulier pour les substrats avec bonne hydrophilie et forte adsorption. Lorsque les molécules du matériau du film s'accumulent sur ces impuretés, cela affecte l'adhérence de la couche de film, ce qui affecte également la résistance du film.

De plus, si l'hydrophilie du substrat est médiocre et que la force d'adsorption est médiocre, l'adsorption sur la couche de film est également médiocre, ce qui affectera également la résistance du film.

La stabilité chimique du matériau de nitrate est médiocre et la surface du substrat a été corrodée pendant le processus de circulation dans le processus de prétraitement, formant une couche de corrosion ou une couche d'hydrolyse (peut-être localisée et extrêmement mince). Lorsque le film est plaqué sur la couche de corrosion ou la couche d'hydrolyse, son adsorption est médiocre et la fermeté du film est médiocre.

Il y a de la saleté, des taches d'huile, des taches grises, des taches de bave, etc. sur la surface du substrat, et la couche de film locale adhère mal, ce qui entraîne une mauvaise fermeté du film local.

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