Caractéristiques techniques de la cible de pulvérisation magnétron double porte pour l'argenture sous vide
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Caractéristiques techniques de la cible de pulvérisation magnétron double porte pour l'argenture sous vide
(1) Le corps de la chambre à vide indépendant est combiné en une ligne, une position multi-cible, un rendement élevé, une grande capacité, un revêtement simultané double face ou simple face peuvent être sélectionnés
(2) Vanne à vide indépendante, projet d'isolation sous vide plus fiable
(3) Système de pompage sous vide à pompe moléculaire, vitesse de pompage stable, propre et sans huile
(4) La conception du système de la chambre à vide peut être ajoutée et le revêtement de film multicouche peut être réalisé après expansion.
(5) Conception de structure cible optimisée, taux d'utilisation cible élevé
(6) Processus de dépôt par pulvérisation stable et à grande vitesse
(7) Adopter un ordinateur industriel, un système de contrôle PLC pour réaliser un fonctionnement automatique, une interface de dialogue homme-machine à écran tactile, un menu multifonction
(8) Système de contrôle précis de jauge à vide composite avec une précision de mesure élevée pour assurer un contrôle précis du système de vide
(9) Système de contrôle du débit de gaz de haute précision, précision de mesure élevée et vitesse de réponse rapide, pour garantir une atmosphère de travail cible stable et contrôlable, un fonctionnement cible stable, un dépôt de film stable et une épaisseur de film constante
(10) L'équipement a un degré élevé d'automatisation, réalisant un fonctionnement sans pilote, et la pièce peut automatiquement revenir à la station désignée avant et après le revêtement.
Film d'oxyde d'étain d'indium d'argent sous vide
Le film d'oxyde d'étain d'indium (oxyde d'étain d'indium, ITO en abrégé) est un matériau conducteur transparent largement utilisé, qui a été utilisé à maturité dans les pare-brise de véhicules automobiles, les dispositifs d'affichage à cristaux liquides, les cellules solaires, l'holographie et les téléviseurs couleur à cristaux liquides, etc. le domaine d'application est l'affichage à diodes électroluminescentes organiques (Organic Light-Emitting Diode, OLED en abrégé). Du point de vue de l'application, la composition du film ITO doit généralement être In2O3 et SnO2, et moins il y a de composés d'indium et d'étain de faible valence dans le film, mieux c'est. Il existe de nombreuses méthodes de préparation des films minces ITO, telles que la pulvérisation, l'évaporation, la pulvérisation radiofréquence et la pulvérisation magnétron.
La ligne de production de revêtement continu horizontal ITO/ISI est un équipement de production continue par pulvérisation magnétron planaire à grande échelle. Il adopte une conception modulaire, pratique pour une expansion et une mise à niveau futures. Il est équipé de plusieurs ensembles de cathodes magnétron à grande échelle, qui peuvent être appliquées à la combinaison de diverses structures de film ; Contrôle entièrement automatique, système de transmission à haute stabilité, qui peut être connecté de manière transparente au manipulateur pour réaliser des opérations de chaîne de montage continues et stables ; rythme de production rapide et production importante.
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