Introduction au principe de la galvanoplastie horizontale pour la galvanoplastie des tubes de chauffage électrique

Introduction au principe de la galvanoplastie horizontale pour la galvanoplastie des tubes de chauffage électrique

Après avoir été électrifié, une réaction d'électrode se produit, provoquant l'ionisation des principaux composants de l'électrolyte. Les méthodes et principes de galvanoplastie horizontale et verticale doivent avoir à la fois des électrodes positives et négatives. Déplacer les ions positifs chargés vers la phase négative de la zone de réaction de l'électrode ; Les ions négatifs chargés se déplacent vers la phase positive de la zone de réaction de l'électrode, ce qui entraîne un dépôt de métal et une libération de gaz. Car le processus de dépôt de métal à la cathode se décompose en trois étapes : diffusion des ions d'hydratation du métal vers la cathode ; La deuxième étape consiste pour les ions métalliques hydratés à se déshydrater et à s'adsorber progressivement sur la surface de la cathode lorsqu'ils traversent la double couche; La troisième étape consiste pour les ions métalliques adsorbés sur la surface de la cathode à recevoir des électrons et à pénétrer dans le réseau métallique. D'après l'observation réelle, la situation du réservoir de travail est qu'il n'y a pas de réaction de transfert d'électrons hétérogène observable entre l'interface entre l'électrode solide et la solution liquide de galvanoplastie. Sa structure peut être expliquée par le principe de la double couche dans la théorie de la galvanoplastie. Lorsque l'électrode est une cathode et dans un état polarisé, les cations entourés de molécules d'eau avec des charges positives sont disposés de manière ordonnée près de la cathode en raison des forces électrostatiques, Hermann von Helmholtz (La couche externe de Hermann von Helmholtz est d'environ {{0 }} nanomètres de distance de l'électrode. Cependant, en raison de la quantité électrique totale de charges positives portées par les cations dans la couche externe de Helmholtz, sa charge positive n'est pas suffisante pour neutraliser les charges négatives sur la cathode. La solution de placage plus éloignée de la cathode est affectée par la convection, et la concentration de cations dans la couche de solution est supérieure à celle des anions.Cette couche est plus petite que la couche externe de Hermann von Helmholtz en raison de l'effet électrostatique, et est également affectée par le mouvement thermique. L'arrangement des ions n'est pas aussi serré et ordonné que la couche externe de Hermann von Helmholtz, appelée couche de diffusion.L'épaisseur de la couche de diffusion est inversement proportionnelle au débit de la solution de placage. C'est-à-dire que plus le débit de la solution de placage est rapide, plus la couche de diffusion est fine et plus l'inverse est épais. Généralement, l'épaisseur de la couche de diffusion est d'environ 5-50 microns. La distance de la cathode est plus grande et la couche de placage atteinte par convection est appelée solution de placage principale. Parce que l'effet convectif de la solution peut affecter l'uniformité de la concentration de la solution de placage. Les ions de cuivre dans la couche de diffusion sont transportés vers la couche externe de Hermann von Helmholtz par diffusion et migration ionique de la solution de placage. Les ions de cuivre dans la solution de placage principale sont transportés vers la surface de la cathode par convection et migration des ions. Au cours du processus de galvanoplastie horizontale, les ions de cuivre dans la solution de placage sont transportés au voisinage de la cathode de trois manières pour former une double couche.

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