Un système expérimental de recherche scientifique pour la galvanoplastie de tranches de silicium sur des tubes chauffants électriques
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Un système expérimental de recherche scientifique pour la galvanoplastie de tranches de silicium sur des tubes chauffants électriques
Le système expérimental de recherche scientifique pour la galvanoplastie de plaquettes de silicium appartient au domaine technique des dispositifs de micro-traitement de plaquettes de silicium, qui se caractérise en ce qu'une plaque de support fixée sur la paroi interne du réservoir de galvanoplastie dans le sens de la largeur du réservoir de galvanoplastie est utilisée pour relativement fixer l'anode et la cathode, formant ainsi un canal pour l'écoulement de la solution de galvanoplastie dans la zone de travail de galvanoplastie entre la plaque de support et la plaque de fond du réservoir de galvanoplastie. L'hélice est entraînée par un moteur installé dans le sens de la longueur du réservoir de galvanoplastie, faire couler la solution de galvanoplastie de l'autre côté de la direction de la longueur du bain de galvanoplastie à travers le canal, puis à travers plusieurs trous circulaires fixés sur la plaque d'écoulement uniforme de le côté extérieur de l'électrode dans le sens de la longueur du bain de galvanoplastie, faire couler la solution de galvanoplastie uniformément de haut en bas sur la surface de la plaquette de silicium accrochée à la cathode dans la zone de travail de galvanoplastie. Ensuite, s'écouler à travers les trous traversants sur une autre plaque d'écoulement uniforme et obtenir un revêtement uniforme sur la plaquette de silicium. Le système expérimental de recherche scientifique remplit le vide de la galvanoplastie des plaquettes de silicium, répondant aux besoins de la recherche scientifique.
Solution d'électrodéposition de chrome trivalent entièrement sulfaté contenant du sulfate de chrome, du sulfate de potassium et/ou du sulfate de sodium, de l'acide borique, un agent complexant et de l'eau, dans laquelle la solution d'électrodéposition contient également l'additif A et l'additif B. L'additif A est choisi parmi un ou plusieurs parmi Émulsifiants OP, fluoroborate soluble dans l'eau, fluorosilicate soluble dans l'eau, acide vinyldiaminoacétique, cystine, 1,4-butynediol, thiourée et éthylène glycol ; L'additif B est choisi parmi un ou plusieurs parmi le phtalimide, le glycérol, le sulfosuccinate soluble dans l'eau, le disoctyl sulfosuccinate disodique et l'alkyl éther sulfate soluble dans l'eau avec un nombre d'atomes de carbone de 2-20. La solution de galvanoplastie fournie par la présente invention améliore grandement la plage de densité de courant du revêtement et la plage de densité de courant de la zone claire.
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